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半導(dǎo)體納米制造的良率基石與精度保障的MTL編碼器

更新時間:2026-01-26      瀏覽次數(shù):118
當(dāng)半導(dǎo)體制程邁入 3nm 時代,晶圓表面哪怕微米級的瑕疵都可能導(dǎo)致整片報廢,而 Microtec Laboratory(MTL)40 余年的精密制造經(jīng)驗,正成為半導(dǎo)體設(shè)備的 “精度安全鎖"。作為適配 IHI、尼康等行業(yè)的日本編碼器專家,MTL 以定制化精密方案,破解光刻、檢測、搬運(yùn)等核心環(huán)節(jié)的精度難題。
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核心優(yōu)勢與解決方案
真空潔凈環(huán)境專屬適配


  • 低釋氣材料與無油潤滑設(shè)計: 杜絕污染物排放,適配超高真空(UHV)工況。
  • 耐高溫: 特殊材料選型,可應(yīng)對光刻設(shè)備 80℃以上的 bake-out 工藝需求。
  • 抗電磁干擾: PTFE 絕緣屏蔽線纜,確保信號在電磁干擾密集環(huán)境中零失真。
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    納米級精度控制
    • 高精度定位: 內(nèi)置編碼器可達(dá) 1 角秒定位精度,20bit 高分辨率輸出。
    • 晶圓檢測: 在 XY 軸控制中,定位誤差穩(wěn)定在 ±0.8μm 以內(nèi),將缺陷漏判率從 0.3% 降至 0.08%。
    • 晶圓搬運(yùn): 超小型編碼器(如 φ21mm 的 MDS-13 系列)集成于機(jī)械臂關(guān)節(jié)電機(jī),實現(xiàn) ±0.01mm 的升降定位精度,避免晶圓碰撞損傷。
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